超大型電腦內部(超大型コンピュータ内部/Central Computer Stage)
他有兩種攻擊模式,分別是大幅旋轉與小幅擺動,兩種模式最後都會衝向衝向艾克斯,故可以用誘導決定他的位置。劍柄(藍色部位)沒有身體判定,如果與該部位重疊,可以輕易地擊倒,要使這種狀況發生還算容易,就是在地上等待他衝過來後,跳開之再進入劍柄位置即可(不過有時還是會碰到綠色部分就是)。另外,用飛沫氣泡死命連射很有效。
第1形態:下射、跳躍三向雷射。
第2形態:上、下射、跳躍三向雷射。
第3形態:上、下射、跳躍三向雷射、前跳。
第4形態:上、下射、跳躍三向雷射、前跳、防護罩。
這裡以最強形態來講。用中距離戰吧,這樣可以讓防護罩的出現率變低,比較好打,若防護罩出現則用連打擊爆。
上下射有個統一躲法,就是都用最高的跳躍來躲,若技術比較好也可用小跳+衝刺的方式躲。
跳躍三向雷射的話,衝到他下方再偏旁邊即可。
前跳比較麻煩,沒有預備動作,在使出上下射到第3發後便要準備衝到他後面去。
攻略要點
前半段是防衛區域,儘量不碰到黃燈儘快脫離吧!
接著會看到一堆名為安裝程式的鐵箱,移動有其規律,若對地形還不熟,建議等他們移動完再前進(有些洞會垂直下落一堆,不要太接近,不然就算只伸出一根手指也會被壓死),但是有些地方有被壓死的危險,就要趕快離開原位。另外,紫色的可打破,有看到的話打掉比較好(尤其是最窄處那邊,不趕快打壞的話會被從左上出現的紫箱壓死)。
中頭目戰請看重點提示1。
打倒中頭目後的垂直通道,從中間偏右下去較為安全。
接著是個會掉落很多磚塊的大房間,而且還會出現掃描器追著艾克斯,如果想在這舞台跟修羅戰警打,那麼就要一直衝,通往其房間的路才不會被封死。至於掃描器,共會出現3次,被其抓到的話會使後面的中頭目變強,除非想刻意挑戰,不然還是趕快跑吧。
這個中頭目戰請看重點提示2。
這個房間當磚塊掉完後會變成如上圖那個樣子。
打倒第二個中頭目後的路會出現警報,其實也還好,箱子會掉落、磚塊立足點會掉下去這樣而已。
接著會看到一堆名為安裝程式的鐵箱,移動有其規律,若對地形還不熟,建議等他們移動完再前進(有些洞會垂直下落一堆,不要太接近,不然就算只伸出一根手指也會被壓死),但是有些地方有被壓死的危險,就要趕快離開原位。另外,紫色的可打破,有看到的話打掉比較好(尤其是最窄處那邊,不趕快打壞的話會被從左上出現的紫箱壓死)。
中頭目戰請看重點提示1。
打倒中頭目後的垂直通道,從中間偏右下去較為安全。
接著是個會掉落很多磚塊的大房間,而且還會出現掃描器追著艾克斯,如果想在這舞台跟修羅戰警打,那麼就要一直衝,通往其房間的路才不會被封死。至於掃描器,共會出現3次,被其抓到的話會使後面的中頭目變強,除非想刻意挑戰,不然還是趕快跑吧。
這個中頭目戰請看重點提示2。
這個房間當磚塊掉完後會變成如上圖那個樣子。
打倒第二個中頭目後的路會出現警報,其實也還好,箱子會掉落、磚塊立足點會掉下去這樣而已。
重點提示1
他有兩種攻擊模式,分別是大幅旋轉與小幅擺動,兩種模式最後都會衝向衝向艾克斯,故可以用誘導決定他的位置。劍柄(藍色部位)沒有身體判定,如果與該部位重疊,可以輕易地擊倒,要使這種狀況發生還算容易,就是在地上等待他衝過來後,跳開之再進入劍柄位置即可(不過有時還是會碰到綠色部分就是)。另外,用飛沫氣泡死命連射很有效。
重點提示2
第1形態:下射、跳躍三向雷射。
第2形態:上、下射、跳躍三向雷射。
第3形態:上、下射、跳躍三向雷射、前跳。
第4形態:上、下射、跳躍三向雷射、前跳、防護罩。
這裡以最強形態來講。用中距離戰吧,這樣可以讓防護罩的出現率變低,比較好打,若防護罩出現則用連打擊爆。
上下射有個統一躲法,就是都用最高的跳躍來躲,若技術比較好也可用小跳+衝刺的方式躲。
跳躍三向雷射的話,衝到他下方再偏旁邊即可。
前跳比較麻煩,沒有預備動作,在使出上下射到第3發後便要準備衝到他後面去。
ROCKMAN X2 STAGE
ROCKMAN X2 PROJECT
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